GMD2000二氧化硅改性環(huán)氧樹(shù)脂研磨分散機(jī)一般采用水浴、油浴、蒸汽等方式對(duì)環(huán)氧樹(shù)脂進(jìn)行加熱，將環(huán)氧樹(shù)脂加熱到70-80度，使環(huán)氧樹(shù)脂流動(dòng)性變化，然后將二氧化硅慢慢加入，邊加入二氧化硅邊用環(huán)氧樹(shù)脂進(jìn)行攪拌預(yù)混。待二氧化硅全部加入到環(huán)氧樹(shù)脂中以后然后經(jīng)過(guò)SGN高速剪切研磨分散機(jī)，轉(zhuǎn)速開(kāi)至10500rpm，處理兩遍，配上冷凍機(jī)，控制溫度超過(guò)110度。
GMD2000二氧化硅改性環(huán)氧樹(shù)脂研磨分散機(jī)
研磨分散機(jī)的細(xì)化作用一般來(lái)說(shuō)要強(qiáng)于均質(zhì)機(jī)，但它對(duì)物料的適應(yīng)能力較強(qiáng)（如高粘度、大顆粒），所以在很多場(chǎng)合下，它用于均質(zhì)機(jī)的前道或者用于高粘度的場(chǎng)合。
GMD2000二氧化硅改性環(huán)氧樹(shù)脂研磨分散機(jī)是由錐體磨,分散機(jī)組合而成的高科技產(chǎn)品。
*級(jí)由具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下，凹槽在每級(jí)都可以改變方向。
第二級(jí)由轉(zhuǎn)定子組成。研磨分散機(jī)分散頭的設(shè)計(jì)也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子（乳化頭）和批次式機(jī)器的工作頭設(shè)計(jì)的不同主要是因?yàn)樵趯?duì)輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細(xì)精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列，還有一個(gè)很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例，依據(jù)以前的經(jīng)驗(yàn)工作頭來(lái)滿足一個(gè)具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下，機(jī)器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的，因而它對(duì)制造出zui終產(chǎn)品是很重要。當(dāng)不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用。
的線速度很高，剪切間隙非常小，這樣當(dāng)物料經(jīng)過(guò)的時(shí)候，形成的摩擦力就比較劇烈，結(jié)果就是通常所說(shuō)的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下，凹槽在每級(jí)都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。
設(shè)備等級(jí)：化工級(jí)、衛(wèi)生S級(jí)、衛(wèi)生SS級(jí)、無(wú)菌級(jí)
電機(jī)形式：普通馬達(dá)、變頻調(diào)速馬達(dá)、防爆馬達(dá)、變頻防爆馬達(dá)、
電源選擇：380V/50HZ、220V/60HZ、440V/50HZ
電機(jī)選配件：PTG熱保護(hù)、降噪型
研磨分散機(jī)材質(zhì)：SUS304、SUS316L、SUS316Ti,氧化鋯陶瓷
研磨分散機(jī)選配：儲(chǔ)液罐、排污閥、變頻器、電控箱、移動(dòng)小車(chē)
研磨分散機(jī)表面處理：拋光、耐磨處理
進(jìn)出口聯(lián)結(jié)形式：法蘭、螺口、夾箍
研磨分散機(jī)選配容器：本設(shè)備適合于各種不同大小的容器
產(chǎn)品相關(guān)關(guān)鍵字： 研磨分散機(jī)
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